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钴基合金镀层具有电阻率较高,高频损耗较小,生产工艺简单的优点,已广泛应用于电脑硬盘及其他磁记录器件。化学镀钴层的最大特点是具有很强的磁性,且在不同的钴层厚度和不同镀覆条件下均无多大变化。镀层中磷含量对镀层具有很大的影响。