芯片生产是一个复杂的过程,通常包括以下步骤: 设计:芯片设计人员使用电子设计自动化 (EDA) 软件设计芯片的电路原理图和布局。 掩模制作:设计完成后,需要使用掩模制作技术(如光刻)在硅片上制造出芯片的图案。 晶圆制造:将硅片加工成晶圆,并在晶圆上制造出芯片。这包括在晶圆上涂覆光刻胶、将晶圆暴露在光线下以形成电路图案、在晶圆上沉积金属层、蚀刻金属层等。 封装:将芯片封装在芯片包装材料中,以保护芯片并提供与外部电路的接口。 测试:对芯片进行测试,以确保其符合所需的规格和性能。 包装:将芯片包装在适当的包装
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新一代通讯技术的来临,对电子元件、整个设备终端设备、运用绿色生态都产生新的技术性挑战,自然这也意味着国内生产制造的机遇。而钽酸锂和铌酸锂类似集成电路芯片生产制造产业链的大硅单晶,是制做SAW滤波器的基本原料,具备关键战略地位,将来进步的空间极大。
9月12日,全球第一大内存芯片生产厂商——韩国三星电子,在西安的存储芯片工厂宣布动工。预期可于2013年底前量产10nm级NAND型闪存(NANDFlash),成为三星有史以来投资额最高的海外芯片制造厂。