硅衬底是一种以硅(Si)材料为基础的衬底。在半导体器件和集成电路制造过程中,它是构建其他半导体结构的基础支撑材料。硅衬底通常是一片经过特殊处理的单晶硅薄片,厚度从几十微米到几百微米不等。 作用:为后续的外延生长、掺杂、光刻等工艺提供一个平整、稳定的平台。例如,在制造芯片时,各种半导体器件(如晶体管、二极管等)以及互连线都是在硅衬底上构建的,硅衬底的质量直接影响着芯片的性能、可靠性和尺寸。
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这项工作致力于设计和制造具有大量匝数(> 100)和高达32μH自感的小型平面线圈,适用于增强电感式传感器的性能。首先,改良后的惠勒公式用于确定最佳匝数以实现最高电感。 然后,介绍一种简单在硅衬底上溅射铝的基于感应耦合等离子体(ICP)蚀刻的工艺流程,并讨论了工艺的关键方面。
12月8日,以国际金融公司(IFC)为首的投资机构对晶能光电(江西)有限公司进行增资的签约仪式在北京举行,此次增资总额为5550万美元
11月6日,总投资达40亿元的浪潮(济南)光电子产业园在山东济南高新区正式奠基开工。建成后的浪潮(济南)光电子产业园将成为国内唯一拥有碳化硅衬底材料、外延片、管芯、封装器件和应用产品完整产业链的国内一流光电子园区。浪潮此举,意在以济南为中心,连同潍坊、临沂光电产业基地,打造国内最大的LED产业基地和国内最大的半导体照明产业基地。