采用Ti/FeTaN 薄膜电感的高频DC-DC变换器的制造
2003-06-24 11:00:23
来源:国际电子变压器
采用Ti/FeTaN 薄膜电感的高频DC-DC变换器的制造
1引言
电子的快速发展需要更小和更薄的电源电路,如DC-DC变换器。将平面型薄膜电感器应用于DC-DC变换器中将有利于微型化。FeTaN磁膜具有良好的软磁性和较高的磁饱和度,很适于作薄膜电感器的磁芯材料。近来的趋向是在DC-DC变换器工作频率不断增加的趋势下,要求软磁芯薄膜具有良好的高频特性。
本文研究了双层Ti/FeTaN磁膜,并辅助以磁场退火处理,以改进FeTaN磁膜的高频特性。利用Ti/FeTaN磁膜,制造出一种螺旋型薄膜电感器,并对其进行了评价。最后,用这种电感器,制造出零电压开关电压箝位(ZVS-CV)降压型变换器。
2试验过程
在总气压为1.5 m Torr (毫托),直流功率200W的条件下,采用反应溅射法把FeTaN薄膜沉积在玻璃衬底(19×19mm)上达1厚。Ta成分由Fe 靶子上的Ta碎片的面积比例控制。使用的气体是由15%的氮气和85%的氩气混合而成。 薄膜成分由电子能谱术钻孔器控制,为78.81%的铁,8.17%的钽和12.71%的氮。若要得到Ti/FeTaN双层薄膜,就需要把厚度为500A的Ti层和1厚的FeTaN层顺次沉积。在200~600℃下,对准备好的样品进行30分钟无磁场退火(NFA)或磁场退火 (MFA) 处理,磁场的磁通密度为700高斯。有效磁导率()采用图8线圈法,在磁场强度为3.8毫奥斯特下测量。各向异性磁场()可根据薄膜的易磁化轴和非易磁化轴的磁滞曲线B-H确定。
把铜线圈夹入Ti/FeTaN层中,制造出平面电感器。首先把FeTaN磁膜沉积在下面达1厚,然后经溅射沉积1厚的,最后通过选择性电镀法,形成20的铜线圈。为了制造上面磁性层,把Ti/FeTaN磁性膜沉积在分开的玻璃上,再把两块玻璃结合在一起,接触面用环氧树脂粘接。用网络分析器和阻抗为50Ω的微波传输线,通过分布参数法测出其电感值。
用Ti/FeTaN薄膜感应器,制造了一个混合型DC-DC变换器,其电路拓扑是一个零电压开关电压箝位降压型变换器(ZVS-CV)。
3 结果和讨论
3.1 Ti/FeTaN薄膜的磁性
FeTaN单层薄膜和Ti/FeTaN双层薄膜的磁导率 都随沉积后所用退火温度的变化而变化,图1给出了两者之间的比较,同时也给出了其各自的难磁化轴向和易磁化轴向之间的比较。观察经过NFA退火的FeTaN单层薄膜(图1中上面一幅),其难磁化轴向和易磁化轴向的磁导率都随退火温度的升高而增大,直到温度升高至500℃时达最大,此时其近似值分别为2500和1800。FeTaN薄膜的这种各向同性品质即使在MFA情况下,也没有太大改变。
Ti衬底的添加,再结合磁场退火处理,大大增强了各向异性磁导率,如图1中下面一幅图所示。尽管在500℃左右时,难磁化轴磁导率高达1500,易磁化轴磁导率却在任何温度下都接近零。
通过测量各向异性磁场()也可以观察到,由于添加的Ti衬底,沿单方向的轴向异性特性大大增强。图2是分别根据FeTaN单层薄膜和Ti/FeTaN双层薄膜的磁滞曲线B-H测定的值。从图中可以看出,FeTaN单层薄膜在NFA和MFA两种情况下,其值都很小(大约1奥斯特),相反,经过MFA处理的Ti/FeTaN,其 值最大可达到约11奥斯特。
为了研究其频率特性,在频率增大直到100MHz的过程中,测量了非易磁化轴向的磁导率的变化曲线。FeTaN单层薄膜和Ti/FeTaN双层薄膜之间的结果比较如图3。由图3可见,尽管FeTaN单层薄膜在频率达10MHz以上后,其值迅速下降,Ti/FeTaN双层薄膜的值却直到100MHz都保持恒定值。据报道阻碍FeTaN磁膜高频响应改善的障碍是铁磁共振损耗,而不是涡流损耗。从这点考虑,Ti/FeTaN磁膜高频响应的改善,是由于其值的提高,使得铁磁谐振频率增大了的缘故。
3.2 用Ti/FeTaN磁膜制成的平面电感器的特性
图4给出了制造电感器的示意图。对大电流应用如DC-DC变换器,电感器的载流容量是一个重要因数。有人报道了通过增大磁膜的值,可以提高其载流容量。上面已说过,具有较高值的Ti/FeTaN,其载流容量也较大,最大负载电流可达300mA。调整Ti/FeTaN磁膜的难磁化轴向与磁通量方向一致(即与纵向线圈磁力线垂直的方向),可以获得最大电感和载流容量。
电感器特性曲线如图5。频率达10MHz时,电感值(L)大约是1.6μΗ。直流电阻(R)的初始值大约是2Ω,频率从2MHz向上增加时,其值迅速增大。品质因数Q的最大值在2MHz时获得,为2.3。
3.3 ZVS-CV降压型DC-DC变换器的特性
设计了一个零电压开关电压箝位(ZVS-CV)降压型变换器,通过零电压开关补偿效率下降,电路图如图6。虚线框内的电路器件是薄膜电感器。ZVS-CV降压型变换器与传统型转换器之间的效率比较见图7,两者对应的开关频率都是1.2MHz,输入电压4.5V,输出电压3.5V,SWI(开关1)的占空比为0.72。
ZVS-CV降压型变换器的测量效率最大值达80%,且直到负载电流达300mA,该值都是稳定的。与传统型变换器相比,ZVS-CV降压型转换器在最大负载时效率也提高了约4%。
4结论
用Ti/FeTaN磁膜,制造了薄膜电感器。与FeTaN相比,Ti/FeTaN的值的提高,大大改善了其频率特性。制成的电感器,性能良好,其最大品质因数约为2.3(在2MHz时获得),对应电感约为1.6μΗ。最后,采用薄膜电感器制成的ZVS-CV降压型变换器的,在1.2MHz时,其转换效率约为80%,允许负载电流达300mA。■
1引言
电子的快速发展需要更小和更薄的电源电路,如DC-DC变换器。将平面型薄膜电感器应用于DC-DC变换器中将有利于微型化。FeTaN磁膜具有良好的软磁性和较高的磁饱和度,很适于作薄膜电感器的磁芯材料。近来的趋向是在DC-DC变换器工作频率不断增加的趋势下,要求软磁芯薄膜具有良好的高频特性。
本文研究了双层Ti/FeTaN磁膜,并辅助以磁场退火处理,以改进FeTaN磁膜的高频特性。利用Ti/FeTaN磁膜,制造出一种螺旋型薄膜电感器,并对其进行了评价。最后,用这种电感器,制造出零电压开关电压箝位(ZVS-CV)降压型变换器。
2试验过程
在总气压为1.5 m Torr (毫托),直流功率200W的条件下,采用反应溅射法把FeTaN薄膜沉积在玻璃衬底(19×19mm)上达1厚。Ta成分由Fe 靶子上的Ta碎片的面积比例控制。使用的气体是由15%的氮气和85%的氩气混合而成。 薄膜成分由电子能谱术钻孔器控制,为78.81%的铁,8.17%的钽和12.71%的氮。若要得到Ti/FeTaN双层薄膜,就需要把厚度为500A的Ti层和1厚的FeTaN层顺次沉积。在200~600℃下,对准备好的样品进行30分钟无磁场退火(NFA)或磁场退火 (MFA) 处理,磁场的磁通密度为700高斯。有效磁导率()采用图8线圈法,在磁场强度为3.8毫奥斯特下测量。各向异性磁场()可根据薄膜的易磁化轴和非易磁化轴的磁滞曲线B-H确定。
把铜线圈夹入Ti/FeTaN层中,制造出平面电感器。首先把FeTaN磁膜沉积在下面达1厚,然后经溅射沉积1厚的,最后通过选择性电镀法,形成20的铜线圈。为了制造上面磁性层,把Ti/FeTaN磁性膜沉积在分开的玻璃上,再把两块玻璃结合在一起,接触面用环氧树脂粘接。用网络分析器和阻抗为50Ω的微波传输线,通过分布参数法测出其电感值。
用Ti/FeTaN薄膜感应器,制造了一个混合型DC-DC变换器,其电路拓扑是一个零电压开关电压箝位降压型变换器(ZVS-CV)。
3 结果和讨论
3.1 Ti/FeTaN薄膜的磁性
FeTaN单层薄膜和Ti/FeTaN双层薄膜的磁导率 都随沉积后所用退火温度的变化而变化,图1给出了两者之间的比较,同时也给出了其各自的难磁化轴向和易磁化轴向之间的比较。观察经过NFA退火的FeTaN单层薄膜(图1中上面一幅),其难磁化轴向和易磁化轴向的磁导率都随退火温度的升高而增大,直到温度升高至500℃时达最大,此时其近似值分别为2500和1800。FeTaN薄膜的这种各向同性品质即使在MFA情况下,也没有太大改变。
Ti衬底的添加,再结合磁场退火处理,大大增强了各向异性磁导率,如图1中下面一幅图所示。尽管在500℃左右时,难磁化轴磁导率高达1500,易磁化轴磁导率却在任何温度下都接近零。
通过测量各向异性磁场()也可以观察到,由于添加的Ti衬底,沿单方向的轴向异性特性大大增强。图2是分别根据FeTaN单层薄膜和Ti/FeTaN双层薄膜的磁滞曲线B-H测定的值。从图中可以看出,FeTaN单层薄膜在NFA和MFA两种情况下,其值都很小(大约1奥斯特),相反,经过MFA处理的Ti/FeTaN,其 值最大可达到约11奥斯特。
为了研究其频率特性,在频率增大直到100MHz的过程中,测量了非易磁化轴向的磁导率的变化曲线。FeTaN单层薄膜和Ti/FeTaN双层薄膜之间的结果比较如图3。由图3可见,尽管FeTaN单层薄膜在频率达10MHz以上后,其值迅速下降,Ti/FeTaN双层薄膜的值却直到100MHz都保持恒定值。据报道阻碍FeTaN磁膜高频响应改善的障碍是铁磁共振损耗,而不是涡流损耗。从这点考虑,Ti/FeTaN磁膜高频响应的改善,是由于其值的提高,使得铁磁谐振频率增大了的缘故。
3.2 用Ti/FeTaN磁膜制成的平面电感器的特性
图4给出了制造电感器的示意图。对大电流应用如DC-DC变换器,电感器的载流容量是一个重要因数。有人报道了通过增大磁膜的值,可以提高其载流容量。上面已说过,具有较高值的Ti/FeTaN,其载流容量也较大,最大负载电流可达300mA。调整Ti/FeTaN磁膜的难磁化轴向与磁通量方向一致(即与纵向线圈磁力线垂直的方向),可以获得最大电感和载流容量。
电感器特性曲线如图5。频率达10MHz时,电感值(L)大约是1.6μΗ。直流电阻(R)的初始值大约是2Ω,频率从2MHz向上增加时,其值迅速增大。品质因数Q的最大值在2MHz时获得,为2.3。
3.3 ZVS-CV降压型DC-DC变换器的特性
设计了一个零电压开关电压箝位(ZVS-CV)降压型变换器,通过零电压开关补偿效率下降,电路图如图6。虚线框内的电路器件是薄膜电感器。ZVS-CV降压型变换器与传统型转换器之间的效率比较见图7,两者对应的开关频率都是1.2MHz,输入电压4.5V,输出电压3.5V,SWI(开关1)的占空比为0.72。
ZVS-CV降压型变换器的测量效率最大值达80%,且直到负载电流达300mA,该值都是稳定的。与传统型变换器相比,ZVS-CV降压型转换器在最大负载时效率也提高了约4%。
4结论
用Ti/FeTaN磁膜,制造了薄膜电感器。与FeTaN相比,Ti/FeTaN的值的提高,大大改善了其频率特性。制成的电感器,性能良好,其最大品质因数约为2.3(在2MHz时获得),对应电感约为1.6μΗ。最后,采用薄膜电感器制成的ZVS-CV降压型变换器的,在1.2MHz时,其转换效率约为80%,允许负载电流达300mA。■
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